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  • 真空实验室胶体磨

  • 发布时间:2019/6/26 10:37:51
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产品详细说明
公司介绍

真空实验室胶体磨,小型真空胶体磨,制药真空胶体磨,小型高速真空胶体磨,食品医药胶体磨,GMP无菌无尘胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过锥体磨(胶体磨)定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

影响研磨效果因素:

决定研磨效果的有几个主要因素:被研磨物体材料的性质,磨料的物理特性,粘结剂的粘结强度,研磨压力及研磨的运动速度,研磨设备结构设计,研磨设备经密程度,研磨的时间。

另外,研磨操作遵守循序渐进的原则,研磨时,按照磨料的硬度,从硬到软逐级顺序研磨,或按照磨料的粒度,从大到小逐次顺序进行。否则,不但效率降低而且wu法获得理想的表面状态。



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上海依肯机械设备有限公司另外一项独特的创新,就是CMO2000系列锥体磨(胶体磨),它的设计使其功能在原有的CM2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000系列锥体磨(胶体磨)能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。锥体磨(胶体磨)的研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。 
      锥体磨(胶体磨)的研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,如碳化钨钴胶体磨,陶瓷胶体磨,氧化锆陶瓷胶体磨等等特制的胶体磨.并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和最后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。


胶体磨

流量

输出

线速度

功率

入口/输出连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

 CMO 2000/4

50

9,000

23

1.5

DN25/DN15

 CMO 2000/5

200

6,000

23

7.5

DN40/DN32

 CMO 2000/10

500

4,200

23

22

DN50/DN50

 CMO 2000/20

1500

2,850

23

37

DN80/DN65

 CMO 2000/30

3000

1,420

23

55

DN150/DN125

 CMO 2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到最大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和最终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
5  本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。


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